فرن أنبوب PECVD

فرن أنبوب PECVD هو نظام فرن أنبوب طور غاز البلازما ، والذي يتكون من غرفة تفاعل الكوارتز ، ومحمية طاقة تردد راديو ، ونظام خلط الغاز متعدد القنوات ، ووحدة فراغ ، ونظام التحكم في التفاعل. يستخدم الفرن مادة ألياف ألومينا عالية النقاء ، ويتم طلاء السطح بطبقة ألومينا عالية الحرارة المستوردة لتمديد عمر خدمة الأداة وتحسين كفاءة التدفئة. يتم تثبيت جهاز تحريض التردد الراديوي أمام ترسب البخار الكيميائي التقليدي لتأين غاز التفاعل وتوليد البلازما. النشاط العالي للبلازما يسارع رد الفعل. إنه يتمتع بتوحيد جيد وتكرار ، ويمكنه تشكيل أفلام على مساحة كبيرة ، ويمكن أن تشكل أفلامًا في درجات حرارة منخفضة ، ولديه تغطية ممتازة ، ويسهل التحكم في تكوين الفيلم وسمكه وسهل التصنيع. يستخدم على نطاق واسع في نمو الأفلام الرقيقة مثل الجرافين وأول أكسيد السيليكون ونيتريد السيليكون وأوكسينيتريد السيليكون والسيليكون غير المتبلور (A-Si: H).